ASML是全球光刻机制造技术最先进的厂商，其研发制造的EUV光刻机，更是成为全球芯片厂商争相购买的设备。
遗憾的是，ASML研发制造出来EUV光刻机后，因为瓦森纳协议的缘故，EUV光刻机就不能自由出货，而国内厂商早就全款订购了一台，至今都没有到货。
芯片等规则被修改后，ASML也不能自由出货了，EUV光刻机连出货到外企中国分厂出货都不行，DUV光刻机仅在一般情况下，面对特定厂商才能出货。
在这样的情况下，ASML也多次明确表态，希望尽快恢复自由出货，因为限制ASML等出货，不仅没有好处，反而还会加速其它厂商突破，未来十年或许就将全面退出国内市场。
进入2022年后，ASML就明显发生变化了，其不再发声表态，而是直接做出了行动。
据悉，ASML明显加速向国内市场出货DUV光刻机等设备，仅今年第一季度就向国内出货23台，远超其它时间段。
另外，ASML还透露了全新一代High NA EUV光刻机的原型机将会在2023年完成，有望在2024年交付厂商测试。
这意味着根据瓦森纳协议，ASML有望在2024年自由出货EUV光刻机。
其实，ASML也一直都在准备着在2024年或者2025年实现EUV光刻机自由出货，一方面是因为其不断提升EUV光刻机的产能，计划2年生产制造115台；
另一方面是ASML计划在2025年实现EUV光刻机全球安装使用率达到60%，并已经宣布扩大国内研发中心的规模，还计划建设维修中心。
对此，就有外媒表示ASML基本已成定局，几乎可以说是正在全面努力实现自由出货，DUV光刻机出货量快速增加是其一，加速EUV光刻机自由出货是其二。
当然，ASML加速自由出货也是有原因的，毕竟，ASML是光刻机巨头，全球中高端市场基本上被ASML占领，ASML能够实现自由出货，就能够拿下更多市场。
更何况，国内市场已经超越美国成为ASML第三大市场，占比高达14%，这还是在不能自由出货的情况下。
再加上，英特尔不放弃在国内建厂，台积电、三星以及SK海力士都在国内有大量的工厂，而这些工厂都在进行产能提升、工艺升级，自然也需要更多光刻机等设备。
其次，越来越多的新技术出现，这给ASML增加了很多压力，因为这些新技术都降低对ASML光刻机的依赖，ASML越不能自由出货，新技术替代速度就越快。
其中，NIL工艺在不使用EUV光刻机的情况下，可以将芯片制程缩小至5nm，而先进的封装工艺和堆叠技术芯片，可以将芯片性能提升40%，甚至是翻倍提升。
华为等厂商都在研发更为先进的光电芯片技术，该技术可以完全绕开美芯片技术等，这就意味着不再需要ASML的光刻机等设备。
最后，国产光刻机等技术进步很快，先进的曝光系统、浸润系统等都已经完成。消息称，全新一代国产光刻机正在生产测试阶段。
要知道，国内早就开始建设曝光系统生产制造基地项目，这就等于是为国产先进光刻机批量生产制造做准备。
毕竟，国产光刻机已经占领了国内八成市场，先进的国产光刻机量产下线后，自然会进一步拿下更多国内市场。届时，ASML的光刻机在国内自然就会下滑。