原创 自主替代加速!半导体CVD设备,拐点即将到来?

原创             自主替代加速!半导体CVD设备,拐点即将到来?

作者/星空下的烤包子

编辑/菠菜的星空

排版/星空下的莴苣

最近一段时间,半导体行业正经历着“冰火两重天”。

所谓“冰”,就是不少半导体巨头去年成绩单惨淡,比如英特尔营业收入和净利润分别同比下降了20%60%,而且费城半导体指数(SOX)去年累计下跌了接近40%,最多时甚至几乎要腰斩。所谓“火”,就是“火”,最近半导体玩家的融资能力和融资速度在增加,比如今年过去的两个多月,已经有超过50位玩家融资成功。

所以投资者对于这条赛道的理解自然会有所差异,那么今天,我们就走进半导体核心设备之一——CVD设备,看看这条赛道上有没有靓丽的风景线。

一、挖井不忘卖铲人

而投资圈有句话叫“淘金先富卖铲人”。作为半导体制造环节中的重要设备——薄膜沉积设备,最近也获得了高度关注。

一向以来,笔者对于国内半导体装备的看法就是低端设备过剩,但是高端半导体设备是稀缺的,国产化之路漫长且遥远。但是最近玩家的一些动态让笔者的固有观念有所改观。

就比如万业企业(600641)表示嘉芯半导体首台CVD(化学气相沉积)设备已成功交付客户,普达特科技(00650)拟投资1.4亿元开展CVD设备业务,该业务的产品包括用于制造12寸晶圆片的多种先进热CVD设备。

还有龙头之一的拓荆科技(688072)近一年共接待613家机构870次调研,说明投资者也在国产替代的主题上积极地寻找“猎物”。

原创             自主替代加速!半导体CVD设备,拐点即将到来?拓荆科技股价表现

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常言道,挖井不忘卖铲人,不少投资者也在寻找CVD行业的铲子王。

二、高精尖,来不得半点马虎

随着近些年半导体产业的高速发展,芯片结构的复杂程度与日俱增,这对制造商也提出了更高的要求。在众多的制造设备中,光刻机、刻蚀机、以及薄膜沉积设备占晶圆制造设备价值量的比例分别为22%19%19%,成为绝对的皇冠上的明珠。

对于光刻机和刻蚀机,之前我们已经聊的比较多了,今天就将焦点放在薄膜沉积设备,毕竟它的市场规模已经超过了170亿美元,据专业机构估计,三年之后,其规模能达到340亿美元,这几年的复合增长率约14%

纵观薄膜沉积设备市场,主流有三种不同类型的设备,CVD设备的市场份额大约有2/3,主要应用于各种氮化物、碳化物涂层的制备。CVD原理就是通过化学反应的方式,在硅片表面沉积薄膜的工艺。

原创             自主替代加速!半导体CVD设备,拐点即将到来?薄膜沉积设备分类

所以可以说是制程和CVD设备是相互促进、共同进步的。任何一方拖了后腿,都不利于整个产业的发展。

三、难以望其项背,但并不是遥不可及

在CVD设备这个大市场中,从当前的竞争格局来看,这个行业呈现出了高度垄断的局面,应用材料、泛林半导体、TEL直接就占据了70%的市场份额。

如果细看,这三个玩家也是各有特色,应用材料拥有最为全面的沉积技术,产品种类覆盖面广,当之无愧的老大哥;泛林半导体专注于CVD设备,在PECVD细分领域具有较强的竞争优势;TEL作为日本最大的半导体设备供应商,在CVD产品上起步早,种类较为齐全。

原创             自主替代加速!半导体CVD设备,拐点即将到来?CVD设备国产化较低

回到国内市场,据专业机构的数据,薄膜沉积设备国产化率仅有5.5%,但从应用端来看,我国大陆是CVD设备的主要应用市场,大概占据了近三成的市场份额,其次才是韩国和中国台湾。供给和需求的矛盾,叠加灯塔国(美国)在半导体领域对我们的技术封锁,更让我们意识到自主替代的重要性,这条道路上,仍有很广阔的天地。

虽然设备国产化率目前不高,但是玩家也在不断努力着,取得的成绩更应该被投资者关注,毕竟获得技术突破后,也有利于其他资源的倾斜。比如拓荆科技就是唯一一家在集成电路领域实现 PECVD (CVD设备之一)产业化的厂商。

原创             自主替代加速!半导体CVD设备,拐点即将到来?拓荆科技PF-300T销量变化

再比如中微公司(688012)MOCVD业务也快速成长,它应用在新一代MiniLED产业化中,去年MOCVD设备前三季收入为3.9亿元,同比增长约 27.7%,毛利率达35.8%,从交付量来说,已经在全球交付了超过500台。此外,北方华创在APCVD、LPCVD处于国内领先地位,去年的前三季度营收和归母净利润都大幅提升。

可以看出,国内玩家布局的策略还是求精不求全,而且实现了错位布局,也减少了重复建设的资源浪费。

所以,CVD设备是一条长坡厚学的赛道,路漫漫其修远兮,持续关注玩家在技术和客户获取上的突破,是获得理想投资回报的重要途经。

注:本文不构成任何投资建议。股市有风险,入市需谨慎。没有买卖就没有伤害。